반도체 기술 중국에 넘긴 세메스 전 직원들, 2심서 형량↑

삼성전자 자회사인 세메스가 개발한 반도체 세정장비 핵심 기술을 해외로 유출한 전 연구원 등이 항소심에서 원심보다 높은 형량을 선고받았다.

수원고법 형사2-3부(고법판사 이상호 왕정옥 김관용)는 9일 부정경쟁방지법위반, 산업기술보호법 위반 등의 혐의를 받는 세메스 전 직원 A씨의 항소심에서 징역 4년을 선고한 원심을 파기하고 징역 5년을 선고했다. 또 A씨가 세메스에서 퇴직한 뒤 설립한 반도체 장비제조업체에는 원심이 판결한 벌금 10억원을 파기하고 벌금 15억원을 내라고 선고했다.

이외에 범행에 가담한 세메스 협력사 직원 B씨와 협력사 대표 C씨 등 6명에게 각각 징역 2~4년을 선고하고 상대적으로 가담 정도가 가벼운 세메스 전 직원 D씨에 대해서는 형의 집행을 3년간 유예했다.

A씨 등은 2018년 3월부터 2021년 12월까지 세메스의 영업비밀인 반도체 습식 세정 장비 제작 기술 등을 부정 사용해 장비 24대의 설계 도면을 만든 후 이를 이용해 710억원 상당의 장비를 제작, 중국에 유출한 혐의를 받는다.

이들은 퇴사 시 관련 정보를 반납하지 않거나 세메스 협력업체 직원들에게 부탁하는 등의 방식으로 기술정보 및 설계도면 등을 취득한 것으로 조사됐다.

항소심 재판부는 “피고인들은 부정취득한 기술을 사용해 반도체 세정장비를 만들어 중국으로 수출하고 관련 기술을 업체에 이전하기도 했다”며 “해당 기술은 피해 회사가 다년간 개발 및 연구해 얻은 성과로 가볍게 처벌할 경우 해외 경쟁업체가 우리나라가 쌓아온 기술력을 손쉽게 탈취하는 것을 방치하게 된다”고 판시했다.

이와 함께 같은 날 수원고법 형사2-2부(고법판사 김관용 이상호 왕정옥)는 부정경쟁방지법 위반 등 혐의를 받는 A씨의 원심을 파기하고 징역 5년에 벌금 5억원을 선고했다.

A씨는 2016년 6월 세메스가 세계 최초 개발한 초임계 반도체 세정 장비의 핵심 도면을 세메스 협력사 대표로부터 취득, 브로커를 통해 중국에 유출한 혐의를 받는다.

김은진 기자 kimej@kyeonggi.com

※이 기사는 <경기일보> 기사입니다.